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美國普渡大學(xué)成功在石墨烯中生成2.1eV的永久帶隙結(jié)構(gòu)

發(fā)布日期:2019-05-31??來源:航空工業(yè)信息網(wǎng)我要投稿我要評論

【據(jù)美國普渡大學(xué)網(wǎng)站2019年5月30日報道】美國普渡大學(xué)的科研人員與美國密歇根大學(xué)和中國華中科技大學(xué)合作,成功驗證了可以利用激光沖擊在石墨烯中生成永久“帶隙”結(jié)構(gòu),能量帶隙達(dá)到達(dá)到了2.1eV,遠(yuǎn)高于此前的記錄0.5eV,從而使石墨烯有望在下一代電子技術(shù)中起到硅之類的半導(dǎo)體的作用。與化學(xué)摻雜等技術(shù)不同,該研究團隊采用的技術(shù)并不改變石墨烯的構(gòu)成,只是利用激光對石墨烯進行純粹的強化。研究人員利用激光產(chǎn)生的沖擊脈沖將石墨烯片壓印到下面的溝槽狀模具上,使其產(chǎn)生永久形變,使石墨烯中的帶隙結(jié)構(gòu)永久化。研究人員可以通過調(diào)節(jié)激光功率來調(diào)節(jié)石墨烯的帶隙大小。研究人員稱,雖然距離將石墨烯放入半導(dǎo)體器件還有很長的路要走,但該項技術(shù)使科研人員可以更靈活地利用石墨烯材料的光學(xué)、磁性和熱性能。該項研究得到了美國國家科學(xué)基金會的支持,相關(guān)論文《Asymmetric 3D Elastic–Plastic Strain‐Modulated Electron Energy Structure in Monolayer Graphene by Laser Shocking》已在Advanced Materials期刊上發(fā)表。

 美國普渡大學(xué)成功在石墨烯中生成2.1eV的永久帶隙結(jié)構(gòu)

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標(biāo)簽:??石墨烯
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